真空鍍膜為什么要用到冷卻水

為什么也要用水冷卻？

主要是圓柱靶。磁控濺射靶在發(fā)射時(shí)會(huì)產(chǎn)生高溫會(huì)使射槍變形，所以它有一個(gè)水套來冷卻射槍。同時(shí)還有一個(gè)重要原因磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中zui突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜基結(jié)合力好。
   從更深層次研究電子在非均勻電磁場(chǎng)中的運(yùn)動(dòng)規(guī)律 , 探討了磁控濺射的更一般原理以及磁場(chǎng)的橫向不均勻性及對(duì)稱性是磁約束的本質(zhì)原因。磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中zui突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜基結(jié)合力好、裝置性能穩(wěn)定。

     真空冷水機(jī)廣泛應(yīng)用于工業(yè)制冷，它能提供恒流、恒溫、恒壓，控制真空電鍍?cè)O(shè)備的溫度，不同工藝流程需要控制不同的溫度，真空電鍍?cè)O(shè)備中冷水機(jī)可以分為風(fēng)冷式的冷水機(jī)和水冷式的冷水機(jī)，水冷式冷水機(jī)達(dá)到好的冷卻效果加冷卻水塔，風(fēng)冷式冷水機(jī)對(duì)工作環(huán)境有要求，它通過熱風(fēng)循環(huán)制冷，通風(fēng)效果的好壞直接影響到冷水機(jī)的制冷效果。